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產(chǎn)品中心光譜系統(tǒng)顯微缺陷膜厚光波場(chǎng)三維顯微鏡 MINUK
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
MINUK是一種可以評(píng)估納米量級(jí)的透明異物和缺陷的設(shè)備，可以單次獲取高度方向的信息，并且可以無(wú)損、非接觸、非侵入性地進(jìn)行測(cè)量。此外，還可以高速掃描任何表面并確定測(cè)量位置，而無(wú)需對(duì)焦。
產(chǎn)品分類(lèi)
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可以透明地評(píng)估納米量級(jí)的污染物和缺陷。
單次拍攝瞬時(shí)深度信息
無(wú)需對(duì)焦即可實(shí)現(xiàn)高速測(cè)量
非破壞性、非接觸式和非侵入式測(cè)量
高速掃描任何表面，便于確定測(cè)量位置
| 分辨率 x，y | 691 nm（單次），488 nm（成分） | |||
| 視場(chǎng) x，y | 700×700微米 | |||
| 分辨率 z | 10 nm（延遲） | |||
| 數(shù)字重對(duì)焦范圍 z | ±700微米 | |||
| 樣本量 | 100×80×t20 mm | |||
| （連接多功能樣品架時(shí)） | ||||
| 樣品臺(tái) | 用于微調(diào)的自動(dòng) XY 載物臺(tái) | |||
| X：±10 mm Y：±10 mm | ||||
| 用于粗調(diào)的載物臺(tái) | ||||
| X：129 mm Y：85 mm | ||||
| 激光 | 波長(zhǎng) 638 nm | |||
| 輸出 0.39 mW 以下，Class1 | ||||
| （對(duì)樣品的照射強(qiáng)度） | ||||
| 描述 | 主機(jī)：505（W）×630（D）×439（H） | |||
| （寬度×深度×高度）毫米 | ||||
| 重量 | 41 千克 | |||
| 功耗 | 主機(jī)：290 VA | |||
| *不包括PC和配件。 | ||||
納米階的形狀信息可以通過(guò)非接觸、非破壞性和非侵入性的方式獲得。通過(guò)單次拍攝獲取深度方向信息，可以可視化和量化透明薄膜表面的劃痕以及肉眼看不見(jiàn)的缺陷的橫截面形狀。
透明薄膜內(nèi)的填充物可以在一次拍攝中觀察到，這是肉眼看不見(jiàn)的。此外，通過(guò)在測(cè)量后改變深度方向的焦點(diǎn)，可以識(shí)別每個(gè)深度的填料。
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